Kuinka automaattinen CIP -puhdistusjärjestelmä toimii?

Automaattinen CIP (puhdas paikalla) puhdistusjärjestelmä on automatisoitu järjestelmä tehokkaan puhdistuksen saamiseksi purkamatta laitteita, joita käytetään pääasiassa elintarvikkeissa, lääke-, kemiallisissa ja muissa toimialoissa. Sen toimintaperiaatteessa yhdistyvät fysikaalinen huuhtelu, kemiallinen liukeneminen, lämpötilanhallinta ja automaattinen valvontatekniikka.

Täysin automaattisen CIP -järjestelmän puhdistusmenettely sisältää yleensä seuraavat vaiheet, ja järjestystä voidaan säätää tai prosessia voidaan yksinkertaistaa todellisen kysynnän mukaan:

• Esivalmistus (veden huuhtelu): Huuhtele laitteen sisäpinta vedellä irtohäisten jäännösten poistamiseksi.
• Alkalinen huuhtelu: Orgaanisen aineen, kuten rasvojen, proteiinien, liuottaminen jne. Kuumentuneen alkalisen liuoksen (esim. 2% NaOH) avulla.
• Välihuuhtelu (kuumavesihuuhtelu): poistaa jäännösvierat reaktion estämiseksi seuraavien happoliuoksien kanssa.
• Hapon huuhtelu: liukenee epäorgaaniset suolat ja asteikko käyttämällä happaa liuosta (esim. 2% HNO₃).
• Lopullinen huuhtelu (tuore tai puhdistettu vesihuuhtelu): Poistaa puhdistusaineen kokonaan ja varmistaa, että laitteet ovat puhtaat ja jäännökset.

Joissakin tapauksissa happuhuuhuhuuhasvaihe voidaan jättää pois ja vain alkalinen huuhteluprosessi suoritetaan.

Järjestelmä saavuttaa tarkan ohjauksen anturien ja automaatiokomponenttien kautta:

• Lämpötilanhallinta: RTD tai Platinum RTD lämpötilan seuraamiseksi reaaliajassa säätämällä höyryventtiilin avaamista ja sulkemista (suora höyryn injektio tai lämmönvaihtimen lämmitys) puhdistusnesteen lämpötilan ylläpitämiseksi.
• Nestemäinen taso ja virtausohjaus: Painelähettimen tarkkailu varastosäiliön tason, solenoidiventtiilien ja pumppujen seuraamiseksi veden määrän automaattisen säätämiseksi; Virtausmittari puhdistusnesteen virtausnopeuden hallitsemiseksi huuhtelun vaikutuksen varmistamiseksi.
• Konsentraation hallinta: Johtamismittari havaitsee puhdistusnesteen johtavuuden ja säätää automaattisesti hapon ja alkalin pitoisuuden happo- ja alkalimittauspumpun läpi kemiallisen reaktion tehokkuuden varmistamiseksi.

Koko automaattinen CIP-järjestelmä koostuu seuraavista avainmoduuleista, jotka toimivat yhdessä:

• Puhdistusliuosten valmistusjärjestelmä: mukaan lukien happamasäiliö, alkalisäiliö, kuumavesisäiliö jne. Se valmistaa erilaisten pitoisuuksien puhdistusliuosta tarvittaessa ja optimoi liuostila sekoittajan ja lämmittimen kautta.
• Kallitus- ja palautusjärjestelmä:

Putkilinjan ja tehosterokotuspumpun välittäminen: Väli puhdistusliuos puhdistettaviin laitteisiin ja muodosta turbulenssi sisäseinän huuhtelemiseksi suuttimien tai ruiskutussuuttimien kautta.
Palauta pumppu ja suodatin: Palauta ja suodattaa puhdistusliuos käyttöjakson pidentämiseksi ja jätteiden vähentämiseksi.

• Automaattinen ohjausjärjestelmä:

PLC ja ihmisen ja koneen rajapinta (kosketusnäyttö): Esiasetettujen puhdistusmenettelyt, lämpötilan, ajan, johtavuuden ja muiden parametrien reaaliaikainen näyttö, tue automaattista / manuaalista moodin vaihtoa.
Tietojen tallennus ja hälytys: Tallenna puhdistusprosessin tiedot, laukaise hälytys ja säädä prosessi epänormaalina.

• Korkea hyötysuhde ja turvallisuus: Ei tarvita ihmisen puuttumista, mikä vähentää toimintavirheiden ja ristikontaminaation riskiä GMP: n ja muiden terveysstandardien mukaisesti.
• Joustava räätälöinti: Puhdistusmenettelyä voidaan säätää esimerkiksi laitteiden tyypin (esim. Fermentointisäiliöt, putkistot) mukaisesti, käymissäiliöt perustuvat emäksiseen pesuun, ja kirkkaat viinisäiliöt perustuvat hapon pesuun.
• Energiansäästö ja ympäristöystävällinen: Kierrätyspuhdistusliuos, vähentäen vedenkulutusta ja jäteveden purkamista.